Atelier sous-régional OMPI-OAPI-INPI sur l’application des droits de la propriété intellectuelle à l’intention des magistrats et des auxiliaires de justice des pays d’Afrique
Du 27 au 30 novembre 2006, un Atelier sous-régional sur l’application des droits de la propriété intellectuelle, se tiendra à Niamey, République du Niger, à l’intention des magistrats et des auxiliaires de justice de 20 pays d’Afrique.
. Ledit Atelier qui regroupera des participants du Bénin, du Burkina Faso, du Burundi, du Cameroun, de Centrafrique, du Congo, de la Côte d’Ivoire, du Gabon, de la Guinée, de la Guinée Bissau, de la Guinée Equatoriale, de Madagascar, du Mali, de la Mauritanie, du Niger, de la République Démocratique du Congo, du Rwanda, du Sénégal, du Tchad et du Togo est organisé conjointement par l’Organisation Mondiale de la Propriété Intellectuelle (OMPI), l’OAPI, l’Institut National de la Propriété Industrielle (INPI) de la France et le Gouvernement de la République du Niger.
Cette rencontre a pour but de présenter aux participants les cadres juridiques international, régional et national régissant la propriété intellectuelle. Elle permettra, en outre, d’examiner les éléments constitutifs des atteintes aux droits de propriété intellectuelle, d’échanger avec les magistrats et autres praticiens du droit, sur les pratiques des tribunaux en matière d’application de droit de la propriété intellectuelle, ainsi que les procédures administratives, civiles et pénales qui s’appliquent en cas d’atteinte aux droits conférés.
L’Atelier permettra également de connaître les difficultés rencontrées par les participants dans l’exercice de leurs fonctions, spécifiquement en matière de règlement des litiges liés à la propriété intellectuelle.
Il sera animé par des experts de l’OMPI, de l’OAPI et de l’OHADA, ainsi que par des spécialistes choisis dans les Etats membres de l’OAPI. L’Atelier portera aussi sur des études de cas pratiques présentés par des magistrats de France sur le droit des brevets, le droit des marques et le droit des dessins et modèles industriels.